鈦在計算機外殼、存儲方面的新應用

因鈦具有質量輕、無金屬過敏性、可循環利用等諸多優良特性，因此鈦在個人電腦、手機等領域中的應用日益增多，預計也會成為將來鈦材銷售的一個方向。鈦在計算機上的使用主要是用做計算機外殼和硬盤盤片。

鈦材與主要作為計算機外殼材料的金屬鎂相比，拉伸強度高出許多（鎂為44.4GPa，鈦為106.3GPa），鈦的導熱率（17W/m.K）卻也只有鎂（159W/m.K）的十分之一，所以鈦作為外殼材料在實現薄壁化的同時又能保持強度，抑制來自硬件等的熱量擴散，防止底面的發熱。尤其是因鈦表面耐蝕性優良，表面的涂層處理等變得較為簡單。 　　

諸如IBM公司于2000年5月宣布其新型ThinkPad筆記本電腦外殼使用鈦基復合材料。ThinkPad電腦A系列（如A20p）和T系列（如T20）的機殼均使用了鈦基復合材料，不但提高了機殼的強度和抗震性能，而且可使電腦更薄、更輕。 

硬盤盤片大多采用鋁合金制造，前不久又出現了“玻璃硬盤”，因為這種盤片具有更大的平滑性和更高的堅固性，且在高轉速時也具有更高的穩定性。計算機硬盤盤片用鈦合金（主要是Ti-3Al-2.5V）比通用的鋁合金和玻璃硬盤有更多的優越性，如強度高，可減少盤片厚度，提高存儲密度和轉速，表面光潔度高，可減少讀寫磁頭與磁盤的距離，提高存儲密度；鈦盤片還具有損壞容許極限高、表面硬度高等特點。 　　

目前，由美國Timet公司投資500萬美元建成了一個鈦盤片內部組織機構，1998年已小規模地在微機驅動部件上進行新開發，硬盤用鈦會給Timet公司帶來很大益處。目前市場上使用較普遍的鈦硬盤的規格為：直徑95mm；厚度0.635mm（或0.8mm）；表面硬度14700MPa；楊氏模量660GPa；最高工作溫度700℃；平直度＜10μm；粗糙度Ra＜0.8nm。盤片采用的生產技術多為精密冷軋鈦或鈦合金，盤片表面可通過等離子氮化、等離子滲碳或等離子碳氮共滲進行硬化處理，盤片表面也可噴鍍一層氮化鈦或硼化鈦硬涂層。 　　

計算機硬盤盤片的市場很大，發展迅速。1998年世界盤片產量約為4.5億張。據估算，硬盤生產量以每年10%-15%的速度增長。預計隨著信息產業的高速發展和市場的激烈競爭，鈦用于計算機會有更好的市場。